2022年10月28日 · 现批准《硅太阳能电池工厂设计规范》为国家标准,编号为GB50704-2011,自2012年6月1日起实施。 其中,第1.0.3（1）、5.2.3、5.2.5、6.6.1、6.6.2、6.6.4、7.2.11、7.3.4、7.5.10条（款）为强制性条文,必须严格执行。
2024年4月23日 · 表格样例及解析 本规范用词说明 指用于生产太阳能电池的各类设备,包括硅片清洗机、扩 散炉、刻蚀机、PECVD设备等。 太阳能电池生产设备 指太阳能电池生产设备的安装、调试、试运行等全方位过程。
2 天之前 · GB 50704-2011的标准全方位文信息,本规范适用于新建、扩建和改建的硅太阳能电池工厂的设计。硅太阳能电池工厂设计规范, Code for design of crystalian silicon solar cell plant, 提供GB 50704-2011的发布时间、引用、替代关系、发布机构、适用范围等信息
2018年9月1日 · 针对太阳能光伏电池发电原理,对于太阳能电池组件生产工艺流程,生产物料消耗及生产环境要求进行描述,重要介绍太阳能电池组件生产工艺流程。
在本标准的编制过程中,编制组经广泛调查研究,在总结国内有关薄膜太阳能电池组件的生产单位、设计单位和施工单位的实践经验,借鉴有关国际标准和国外先进的技术标准的基础上,广泛征求相关单位的意见,反复修改,最高后经审查定稿。 本标准共分12章和1个附录,主要技术内容包括：总则、术语、基本规定、工艺、总图、建筑、结构、气体动力供暖、通风、空气调节与净化、给水排
2023年6月5日 · 《薄膜太阳能电池工厂设计标准》GB51370一2019,经住房和 城乡建设部2019年6月5日以第149号公告批准发布。 本标准制订过程中,编制组进行了广泛、深入的调查研究,总 结了我国在薄膜太阳能电池工厂工程建设中的实践经验,同时参 考了国外先进的技术技术法规、技术标准。 为便于广大设计、施工、科研、学校等单位有关人员在使用本 标准时能正确理解和执行条文规
太阳能电池生产工艺一般分为：扩散前清洗、扩散、扩散后清洗、刻蚀、PECVD,丝网印刷,烧结,分类检测和封装。 扩散后清洗的目的在于洗去扩散时形成的磷硅玻璃,即SiO2和P2O5的混合物,所以扩散后清洗机又叫做去磷硅玻璃清洗机。 动力源有氮气,压缩空气,纯水.HF,热排风,酸排风,废水等。 刻蚀的目的在于把硅片的边缘PN结断开,防止短路。 目前国内所使用的设备
在国际光伏市场巨大潜力的推动下,各国的太阳能电池制造业争相投入巨资,扩大生产,以争一席之地。 本文以EPC工程（总承包）集成服务商CEIDI西递的某项目为例,具体谈谈晶体硅太阳能电池生产厂房设计施工要点。
2014年12月24日 · 薄膜太阳能电池组自动生产线技术要求一、设备功能：此设备主要用于产线中芯片的传输,储存。 以及配合人工完成一系列生产,检测等动作。 及完成引流条、汇流条的粘贴焊接、..
晶体硅太阳电池厂房的生产车间为净化车间,人流、物流宜分开设置,避免人流、物流线路的交叉 干扰。 洁净室宜设计用于搬运设备的可拆卸金属壁板和预留设备搬运时便于搭设的临时缓冲间,设置位 置应确保洁净室不受污染和设备运输线路的方便。