2022年10月12日 · 10. 碱抛后背面白点严重 碱抛开线后,由于链式氧化炉和去PSG跑片数量过少,导致碱抛后背面白点过多。经过添加辅助剂后背面白点问题得以解决 异常原因： 通过各种排查锁定为慢提拉槽（底座）污染异常,常规方式双氧水盐酸泡槽无改善。 处理方法：
制绒添加剂是指在单晶硅太阳能电池的制绒工艺过程中,添加有利于反应结果和产品性能的化学助剂。制绒添加剂含有特殊功能的 表面活性剂,它的加入可以改善制绒液与硅片表面的润湿性,且制绒添加剂对腐蚀液中OH-离子从腐蚀液向反应界面的输运过程具有缓冲作用,使得大批量腐蚀加工
2021年9月8日 · 摘要： 本发明公开了一种PERC太阳能电池碱抛不良片处理工艺,包括如下步骤:收集碱抛不良片;在所述碱抛不良片的正面沉积二氧化硅;对所述碱抛不良片进行背面去PSG处理;对所述碱抛不良片进行碱抛处理.本发明通过在硅片衬底背面生长Al2O3薄膜,在
太阳能电池碱抛工艺流程是太阳能电池生产中的重要步骤。它涉及到去除杂质并在硅片上创建纹理表面,以增强光吸收能力。 该工艺通常包括以下步骤： 1.清洗,首先,将硅片进行清洗,以去除任何有机和无机污染物。通常使用化学和机械清洗方法的组合进行
2020年7月21日 · 制绒的目的是在硅片表面形成绒面面,以减少电池片的反射率,绒面凹凸不平可以增加二次反射,改变光程及入射方式。 （来源：微信公众号"摩尔光伏"） 扩散是为电池片制造心脏,是为电池片制造P-N结,POCl3是当前磷扩散用较多的选择。POCl3为液态磷源,液态磷源扩散具有生产效率较高、稳定性
4 天之前 · 本发明涉及单晶硅抛光,尤其涉及一种适用topcon电池的高背面接触的小塔基碱抛添加剂及其使用方法。背景技术： 1、太阳能光伏发电是未来能源结构中的重要组成部分,在众多
2023年3月29日 · 一种topcon电池背抛工艺 技术领域 1.本发明属于太阳能电池技术领域,具体地说是一种topcon电池背抛工艺,是一种结合碱抛光高短路电流和酸抛光高填充的抛光方案。 背景技术： 2.随着能源更替的迫切需要,刺激了新能源行业高速发展,光伏也迎来了更大的风口。
2020年5月8日 · 用于硅片背面的抛光液添加剂、抛光液以及背钝化晶硅太阳能电池的硅片的抛光方法专利检索,用于硅片背面的抛光液添加剂、抛光液以及背钝化晶硅太阳能电池的硅片的抛光方法属于氢氧化铵酸,碱,盐,酸酐和碱专利检索,找专利汇即可免费查询专利,氢氧化铵酸,碱,盐,酸酐和碱专利汇是一
2023年6月13日 · 2、在太阳能电池片的制程中,topcon电池是一种基于选择性载流子原理的隧穿氧化层钝化接触的太阳能电池技术,其电池结构为n ... 本发明提供的一种改善单晶硅TOPCON电池硅片花篮印的碱抛添加剂 及其应用方法,可以
2021年7月16日 · 技术总结 本发明提供一种解决单晶PERC电池片碱抛EL气流印的方法,包括以下步骤：将慢提拉支架下放至低位,使其浸入加满热水的槽体内；将洗涤剂倒入水桶内搅拌均匀并缓慢添加至槽体内；将含有洗涤剂的混合水排出槽体,并用清水对槽体及慢提拉支架进行充分清洗；加入定量双氧水对槽体及慢
2023年7月17日 · 一种晶硅太阳能电池片碱抛光添加剂 及其配制设备 公布 发明公布 CN116785984A 专利文献 申请进度 基础信息 法律状态 权利要求 说明书 附图 申请进度 专利申请 2023-07-17 申请公布 2023-09-22 授权
2023年10月8日 · 硅片的rca清洗方法技术领域.本申请属于太阳能电池片清洗技术领域,具体涉及一种硅片的rca清洗方法。背景技术.随着光伏电池的快速发展,降本增效已经成为光伏电池的关注点之一。硅片到topcon(tunneloxidepassivatedcontact,隧穿氧化层钝化接触)太阳能电池片(以下简称太阳能电池片)的主要生产工艺有制
2023年10月18日 · 将碳酸钠和氢氧化铵等化学品溶解在 水中,配制好标准的浓度和温度的碱抛液。 2.选择碱抛添加剂。根据单晶硅TOPCON电池硅片的具 体情况,选择合适类型的碱抛添加剂,并按照一定比例混 合均匀。 3.加入添加剂。将混合好的碱抛添加剂加入碱抛液中, 并用搅拌
2023年8月28日 · JUNHE ® 2510-1太阳电池碱抛光添加剂,适用于PERC太阳电池背面碱抛光及TopCon太阳电池去绕镀工艺,是一种符合环保要求的水溶性、无毒无害助剂。 本产品可以大幅度提高无机碱对二氧化硅层和硅的腐蚀选择比,在实现对硅抛光刻蚀的同时,大幅度降低无机碱对二氧化硅层或者PSG层的腐蚀。
2021年8月13日 · 本发明涉及太阳能电池生产领域。背景技术： 碱抛se-perc太阳能电池是目前市场上流行的高效电池之一,通过使用背面碱抛光有效提升了太阳能电池背面反射率,使得长波段透射率明显降低,从而减少了光的透射损失,增加了电流密度jsc,其将正面激光重掺杂技术(se)与局部接触背钝化技术(perc)相结合
2023年4月19日 · 根据智研咨询发布的《2022-2026中国光伏用湿法添加剂行业市场运营态势及发展前景预测报告》,2022年碱抛添加剂的市场容量为2260.21万升,根据销售数据测算,公司在碱抛添加剂的市场销售占有率约为50%。
2021年9月18日 · perc太阳能电池碱抛正面保护工艺 技术领域 1.本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种perc太阳能电池碱抛正面保护工艺。 背景技术： 2.目前,perc太阳能电池生产工艺得到广泛的使用,可以实现标准化生产,其主要工艺步骤如下：制绒 → 扩散 → se激光 → 前氧化+去psg → 碱抛 → 后氧化 →
绍兴拓邦新能源股份有限公司系国家高新技术企业,浙江省科技型中小企业,绍兴首批"330海外英才计划"A类项目,团队包括一名省级领军人才,一名绍兴市"330海外英才"专家。
2022年4月16日 · 28.利用高反射率单晶硅片碱抛添加剂在单晶硅片表面进行碱抛,单晶硅片背表面的反射率高。单晶硅片正背面高选择性腐蚀,加大对背面的腐蚀,减小对正面磷硅玻璃的腐蚀。
2023年7月1日 · 本发明公开了一种PERC太阳能电池碱抛不良片处理工艺,包括如下步骤：收集碱抛不良片；在所述碱抛不良片的正面沉积二氧化硅；对所述碱抛不良片进行背面去PSG处理；对所述碱抛不良片进行碱抛处理。本发明通过在硅片衬底背面生长Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>薄膜,在Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>薄膜表面沉淀
2021年7月16日 · 一种解决单晶perc电池片碱抛el气流印的方法 技术领域 1.本发明涉及perc电池片碱抛改进工艺技术领域,具体为一种解决单晶perc电池片碱抛el气流印的方法。 背景技术： 2.在太阳能电池片的制程中,传统的刻蚀工序使用
2020年12月22日 · 本发明公开了一种太阳能电池制备碱抛光用添加剂及抛光工艺,添加剂由以下质量百分比的原料组成：无机盐0.1％‑5％、缓蚀阻垢剂0.1％‑10％、乳化增稠剂0.1％‑2.5％、PH
2024年8月16日 · 本发明公开了提升太阳能电池片双面效率的碱抛光添加剂、碱抛液及其应用,由如下质量百分比含量的组分组成：脱泡剂0.1‑0.7％,催化剂1.0‑4.0％,无机盐0.05‑2.0％,表
2024年8月16日 · 企查查为您提供提升太阳能电池片双面效率的碱抛光添加剂、碱抛液及其应用专利信息查询,包括专利申请人、申请日期、申请进度,以及显示图片的方法及装置专利发明人信息。更多专利信息查询就上企查查！
2023年8月28日 · JUNHE ® 2510-1太阳电池碱抛光添加剂,适用于PERC太阳电池背面碱抛光及TopCon太阳电池去绕镀工艺,是一种符合环保要求的水溶性、无毒无害助剂。 本产品可以大
产品简介：通过改变晶体硅电池片碱抛工艺中的溶液活性和缓蚀特性,在保护正面氧化层的同时,能有效提高背面抛光效果,从而提升光电转换效率。 对比常规酸刻蚀更经济环保,效率可提
2023年1月18日 · 绍兴拓邦新能源股份有限公司于 1 月 17 日更新上市申请审核动态,该公司已收到审核问询函。 记者了解到,公司是一家专业从事光伏用湿法添加剂研发、生产和销售的高新技术企业, 主要产品包括晶硅太阳能电池碱抛添加剂、制绒添加剂、清洗添加剂等,运用于太阳能电池制备过程中的清洗制绒及
2022年4月16日 · 7.利用高反射率单晶硅片碱抛添加剂在单晶硅片表面进行碱抛包括如下步骤：s1、碱抛添加剂配制：将环糊精确、异己二醇、柠檬酸钠、葡萄糖酸钠、十六烷基二苯基醚单磺酸钠、烷基糖苷按照重量组分加入去离子水中,混合均匀配制成碱抛添加剂溶液。
2024年2月8日 · 本发明公开了Topcon太阳能电池片的制备方法,属于光伏电池生产领域,具体步骤为：步骤1.预清洗；步骤2.碱制绒；步骤3.后清洗：去除残留的有机物；步骤4.酸洗：使用稀酸溶液进行高纯度清洗；步骤5.慢提拉预脱水：对晶硅片表面预脱水；步骤6.烘干：将晶硅片传输至烘干槽进行烘干；步骤7.硼扩散
2021年11月22日 · 5.为提高碱抛光添加剂的稳定性以及抛光后刻蚀背面的平整度和反射率,进而更好的提高成品电池片的转换效率,本发明提供一种单晶硅片碱抛光用添加剂,其各组分的质量百分含量为：抛光成分0.01%～1%,分散
2020年8月21日 · 本发明专利涉及太阳能电池生产技术领域,具体为一种perc电池碱抛光添加剂制备方法。背景技术在太阳能电池制备行业,单晶perc电池技术是目前在市场上流行起来的一种高效太阳能电池技术,其核心是在硅片的背面用氧化铝和氮化硅进行覆盖,以起到钝化表面和提高长波响应的作用,从而提升电池
2018年11月15日 · 本发明涉及研磨抛光材料技术领域,具体涉及一种太阳能电池背抛单晶硅片用抛光液。抛光液的组分包括：主磨料、助清除剂、二甲基吡啶、表面活性剂、葡甘露聚糖、赖氨酸、有机溶剂和去离子水。其中,主磨料为硅溶胶,硅溶胶中粒子的粒径为30‑55nm；有机溶剂为乙醇和异丙醇的混合物,混合物